半導體制程中硅烷（SiH4）是一種特種氣體，在半導體工業(yè)中主要用于制作高純多晶硅、通過CVD（化學氣相沉積）工藝制作二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、多晶硅隔離層、多晶硅歐姆接觸層和異質(zhì)等。SiH4在使用后會產(chǎn)生的廢氣，如果未經(jīng)廢氣處理設備治理就直接高濃度對外排放，對人體和環(huán)境的惡劣影響是無法估量的。

硅烷作為一種提供硅組分的氣體源，反應性和自燃性強烈，有非常寬的自發(fā)著火范圍和極強的燃燒能量，毒性很大，如果人體吸入單硅烷就會強烈刺激呼吸器官，是一種高危險性的氣體。

在半導體工廠中，因工作區(qū)域一般離中心廢氣處理系統(tǒng)遠，為了避免在冗長的排氣過程中引發(fā)非預期的氣體泄漏，局部聚積等問題，硅烷（SiH4）廢氣從無塵室機臺端(POU)反應被排放出后，即先由真空Pump抽至廢氣處理設備Local Scrubber做處理，待處理過后的氣體再接續(xù)至廠務端做第二道處置。

吸附式廢氣處理設備Local Scrubber處理尾氣廢氣的特點？

1. 以吸附桶完全處理設備尾氣

2. 沒有明火、無塵室內(nèi)不產(chǎn)生火源

3. 節(jié)省能源、沒有高耗能的需求

4. 不需要耗用水資源，沒有廢水處理問題

5. 確保尾氣處理的安全性處理過程中沒有危害

6. 妥善處理廢料，不影響地球環(huán)境

綜上，諸如硅烷（SiH4）此類危險性廢氣如若未及時處理，倘若其一旦有故障進而發(fā)生泄漏的問題，很可能會導致各種危害如火災爆炸、人員中毒、環(huán)境破壞等傷害，嚴重時更可能造成人員傷亡或生產(chǎn)中斷等巨大損失。同時，隨著半導體工藝分工越發(fā)細微，應根據(jù)不同工藝衍生出來的氣體特性，選擇搭配合適的廢氣處理設備Local Scrubber，才能更有效的解決廢氣問題。