在反應室里，氣態(tài)反應物經(jīng)化學反應生成固態(tài)物質(zhì)并沉積在硅片表面的薄膜沉積技術，被稱為CVD（化學氣相沉積）。它有一個基本特征：CVD工藝中反應物必須以氣相形式參與反應，配置特氣柜的好處就體現(xiàn)在這上面。

氣體的傳送就需要用到供氣系統(tǒng)，而這些含薄膜組成原子氣體大多是特種氣體，具有一定的危險性，如SiNx薄膜，常作為集成電路最后的鈍化保護層，提高集成電路的可靠性，所以，需要采用特氣系統(tǒng)，配置特氣柜。

CVD配置特氣柜的好處：

1.  特種氣體在沃飛WOFIY全自動特氣柜(GC)中，使用前會經(jīng)過多次自動吹掃，避免被氣體雜質(zhì)污染，保證氣體原材料的純度；

2.  沃飛WOFIY全自動特氣柜（GC）以PLC為控制主體，配合觸摸屏進行系統(tǒng)顯示和設定，可自動切換供氣，保持連續(xù)穩(wěn)定高純度氣體輸送，保證實驗或生產(chǎn)正常進行；

3.  沃飛WOFIY全自動特氣柜（GC）的柜體板材厚度不低于2.5mm，有防腐蝕涂層，在柜門關閉時，氣瓶柜內(nèi)部是處于負壓狀態(tài)，柜內(nèi)的排風換氣的頻率不低于300次/H，報警偵測警報功能齊全，在緊急情況下會自動安全切斷（當設定報警信號被觸發(fā)時），保障生產(chǎn)安全和人員安全。

以上，便是CVD（化學氣相沉積）配置特氣柜的一些好處的簡單介紹，更多氣體應用資訊，請關注沃飛，感謝您的閱讀！