高純氣體管道是高純氣體供氣系統(tǒng)的重要組成部分，是將符合要求的高純氣體送至用氣點仍保持質(zhì)量合格的關(guān)鍵 ，包括系統(tǒng)的設(shè)計、管件及附件的選擇、施工安裝和試驗測試等內(nèi)容。近年來以大規(guī)模集成電路為代表的微電子產(chǎn)品生產(chǎn)對高純氣體的純度和雜質(zhì)含量的日益嚴格的要求，使高純氣體的配管技術(shù)日益受到關(guān)注和重視。

高純氣體管道輸送管道，要根據(jù)工藝過程對氣體純度、允許的雜質(zhì)含量、微粒含量等的要求不同，采用相應質(zhì)量的管材。比如半導體產(chǎn)業(yè)因其生產(chǎn)工藝復雜、加工精細，它不僅要求有潔凈的生產(chǎn)環(huán)境，而且對生產(chǎn)過程中所需的各種高純氣體有特定的、嚴格的要求，從微米技術(shù)進入亞微米、深亞微米(小于0.35g.m)技術(shù)，對氣體中的雜質(zhì)含量、水含量要求極為嚴格，10 -6(ppm級)已經(jīng)不能達到要求，需要達到10-9(ppb級)，甚至10-12(ppt級)。因此輸送管道本身的管道材料特性適應高純、超高純氣體的要求成為必須。

對輸送高純氣體管道而言，其影響氣體質(zhì)量的管道材料主要特性是氣體滲透性、出氣速率、吸附性、表面粗糙度和耐磨性、抗腐蝕性。

高純氣體的配管及材質(zhì)

高純氣體管道的設(shè)計要點：

1.對于不同特性的氣體，要規(guī)劃獨立的供應區(qū)域，一般分為三個區(qū)：腐蝕性/毒性氣體區(qū)、可燃性氣體區(qū)、惰性氣體區(qū)，將相同性質(zhì)的氣體集中加強管理，可燃性氣體區(qū)要特別規(guī)劃防爆墻與泄漏口，若空間不足，可考慮將惰性氣體放置與毒性/腐蝕性氣體區(qū)。
2.管道設(shè)計需要考慮輸送的距離，距離越長，成本越高，風險也越高，通常較合理的設(shè)計流速為20ml/S，可燃性氣體小于10ml/S,毒性/腐蝕性氣體小于8ml/S，在用量設(shè)計方面，則需要考慮使用點的壓力和管徑大小，前者與氣體特性有關(guān)，后者使用點的管徑一般為1/4”～3/8”。
3.根據(jù)用氣設(shè)備的分布情況，高純氣體的管網(wǎng)不宜過大或者過長；宜采用不封閉的環(huán)形管路，在系統(tǒng)末端連續(xù)不斷排放少量的氣體，以便在管網(wǎng)中總有高純氣體流通，不會發(fā)生“死空間”引起高純氣體的污染。
4.管路中應減少不流動氣體的“死空間”，不應設(shè)有盲管，在特種氣體的儲氣瓶與用氣設(shè)備之間應設(shè)吹掃控制裝置、多閥門控制裝置、用以控制各個閥門的開關(guān)順序、系統(tǒng)吹除，以確保供氣系統(tǒng)的安全、可靠運行和防止“死區(qū)”形成而滯留污染物，降低氣體純度。
5.對高純氣體純度要求不同的用氣設(shè)備，宜采用分等級高純氣體輸送系統(tǒng)；也可采用同等級輸送系統(tǒng)，但是在純度要求高的用氣設(shè)備鄰近處設(shè)末端氣體提純裝置。
6.為了檢測高純氣體的純度和雜質(zhì)含量，輸送系統(tǒng)除了設(shè)置必要的連續(xù)檢測儀器，如衡量水含量或者氧雜質(zhì)含量等分析儀外，還應設(shè)置定期取樣用的檢測采樣口，以便按規(guī)定時間進行采樣，分析高純氣體中各種雜質(zhì)的含量。
7.在亞微米級的集成電路生產(chǎn)中，要求供應10－9級的高純氣體，為了確保末端用氣工藝設(shè)備處的氣體純度，使氣體中的雜質(zhì)含量（包括塵粒）控制在規(guī)定的數(shù)值內(nèi)，一般在設(shè)備前設(shè)置末端純化裝置，或末端高精度氣體過濾器

高純氣體配管及附件材質(zhì)的選擇

選用滲透性小、出氣速率低、吸附性差的材料。目前超大規(guī)模集成電路前工序高純氣體輸送系統(tǒng)管道材料采用不銹鋼光亮退火管（SS304BA、SS316BA）、不銹鋼電拋光管（SS316L-EP）等，但是對要求控制高純氣體中總雜質(zhì)含量≤1.01.0×10－6及以下的管材應用SS316L-EP管。